Projektdaten
Systematische Untersuchungen zur galvanischen und außenstromlosen Abscheidung von Nickeldispersionsschichten auf AISi
Fakultät/Einrichtung
Elektrotechnik und Informationstechnik
Förderkategorie
Auftragsforschung
Drittmittelgeber
CiS Forschungsinstitut für Mikrosensorik und Photovoltaik GmbH
Bewilligungssumme, Auftragssumme
Kategorie 5.000,00 - 9.999,00 €
Abstract:
Im hier vorgeschlagenen FuE-Vorhaben sollen für Nickel-basierte Dispersionsschichten die optimalen Prozessparameter (u.a. Vorbehandlung der Substrate; Elektrolytzusammensetzung; Stromdichte; Art, Größe und Oberflächenladung der Teilchen) ermittelt werden.
Ziel sind haftfeste Beschichtungen auf AISi-Substraten mit auf spätere Anwendungen angepassten Verteilungen der Teilchen in der Schicht.