Projektdaten
Großgerätebeschaffung: Sputteranlage UNIVEX 600 C
Fakultät/Einrichtung
Zentrum für Mikro- und Nanotechnologien
Drittmittelgeber
Deutsche Forschungsgemeinschaft
Bewilligungssumme, Auftragssumme
500.000,00 €
Abstract:
Bei dem beantragten Gerät handelt es sich um ein leistungsfähiges PVD-System für Forschung und Pilot-Produktionen mit 5 unabhängigen Vakuumkammern. Die Anlage soll zur Deposition von verschiedenen magnetischen und nicht magnetischen Materialien geeignet sein, sowie für reaktive Sputter-Prozesse von Oxid- und Nitrid-Schichten.