Projektdaten
Laser Lithographie System zum Direktbelichten von Photoresisten (Laserbelichtungssystem)
Hochschule
TU Ilmenau
Fakultät/Einrichtung
Zentrum für Mikro- und Nanotechnologien
Förderkategorie
Länder
Zeitraum
2019 - 2021
Drittmittelgeber
Thüringer Ministerium für Wirtschaft, Wissenschaft und Digitale Gesellschaft
Stichwort
Bewilligungssumme, Auftragssumme
469.828,00 €
Abstract:
Direkt schreibende Verfahren mit Fokusnachführung ermöglichen maximale Fokussiergenauigkeit. Die Tiefe und die Form von Strukturen begrenzen damit nicht mehr die Strukturierungsqualität (minimale Strukturgröße). Die beantragte Anlage stellt daher eine dringend benötigte Erweiterung zur bereits am technologischen Zentrum des IMN MacroNano® etablierten konventionellen maskenbasierten UV-Lithografie auf planaren Strukturen dar. Damit wird eine für die künftigen Forschungsaktivitäten zur Mikro-Nano-Integration dringend benötigte Erweiterung des Technologiespektrums auf 3D-Strukturen adressiert.