TU Ilmenau Humbold Bau

Projektdaten



Hochgenaue Positionierung von Lithographiesystemen auf Substraten im Meterbereich


Hochschule
TU Ilmenau
Fakultät/Einrichtung
Maschinenbau
Förderkategorie
Bund
Zeitraum
2025 - 2028
Drittmittelgeber
Bundesministerium für Bildung und Forschung
Stichwort
Bewilligungssumme, Auftragssumme
1.458.240,00 €

Abstract:

Das Teilvorhaben reiht sich ein in das Gesamtvorhaben FusioTile zur Herstellung von Hochleistungs- Pulskompressionsgittern mit Abmessungen im Meterbereich, einer Kernkomponente für den Betrieb von Ultrakurzpulslasern für die Laserfusion. Etablierte Prozessketten zur Gitterbeschreibung lassen sich nicht ohne unverhältnismäßig großen Aufwand skalieren, daher sollen im Projekt FusioTile große Gitter in Meterbereich mittels Scanning-Beam-Interference-Lithography-Verfahren (SBIL) sequentiell beschrieben werden. SBIL erfordert jedoch sehr hohe Genauigkeiten in der Positionierung und Winkelausrichtung, deswegen nimmt die Präzisionspositionierung, das Arbeitsgebiet dieses Teilvorhabens, eine Schlüsselrolle ein. Der dem Vorhaben zugrundeliegende Lösungsansatz beruht auf der Erkenntnis, dass in dieser Anwendung nur die sehr leichte Beugungsmaske höchstgenau positioniert und ausgerichtet werden muss. Daher soll eine Trennung zwischen Grob- und Feinpositionierung erfolgen. Hierbei wird die Grobpositionierung des schweren Substrates mit konventionellen Positioniereinheiten durchgeführt. Die Beugungsmaske wird hingegen nur mit einer Piezostage in sechs Freiheitsgraden feinjustiert. Die hierzu nötigen Informationen werden durch Positions- und Winkelmessung direkt von der Feinjustagestage aus ermittelt, relativ zu den an der Substrathalterung angebrachten Referenzspiegeln. Dies erfordert innovative fasergekoppelte Interferometer, welche für den direkten Einbau auf die Feinjustagestage hinreichend kompakt sind. Die Hauptarbeitsgebiete des Projektes sind der Einsatz der neuartigen Interferometer zur Längen- und Winkelmessung, der auf kapazitiver Sensorik beruhenden Höhenregelung sowie die dynamische Regelung der Feinjustagestage mit erforderlicher Genauigkeit und Bandbreite. Weiterhin sollen auch fortgeschrittene metrologischen Methoden, ohne die die geforderten Genauigkeiten nicht erreicht werden können, entwickelt und metrologisch verifiziert werden.
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