Projektdaten

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Hochsensitives industriegerechtes Rasterkraftmikroskop mit Doppel-Messsonden

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Oberflächen-3D-Messungen mit Einzelnanometer-Genauigkeit in allen Dimensionsachsen gehören zu den wichtigsten messtechnischen Herausforderungen für die moderne Hochpräzisionsoberflächenbearbeitung. Nicht nur die modernste Chip-Industrie braucht die routiniemäßige Messung von Oberflächendefekten mit 1 - 10 Nanometergenauigkeit, sondern auch die Automobilindustrie muss die Oberflächenrauigkeit auf der Lack-Oberfläche bis in diesen Bereich hinein messen. Dies betrifft auch die Batterieindustrie. Membranen im Separator einer Li-Ionen-Batterie müssen nanometergenau charakterisiert werden. Alle Anwendungen zeigen ein riesiges Weltmarktpotential in Mrd. Euro. Das dafür geeignete typische Messgerät ist das Rasterkraftmikroskop (in Englisch: Atomic Force Microscope, AFM). Allerdings ist die Anwendung solcher Mikroskope in der Industrie sehr eingeschränkt. Der Grund liegt daran, dass die Messung unausweichlich immer von der kleinsten Vibration aus der Umgebung gestört wird, so dass es nicht in der Lage ist, Messungen unter rauhen Umgebungsbedingungen durchzuführen. Dieser Nachteil beeinträchtigt den Einsatz dieser Messtechnik in vielen industriellen Anwendungen, wo sich ein gigantisches Marktpotential entwickelt. Parcan GmbH hat ein innovatives Messprinzip erfunden und den bisherigen Stand der Technik damit aufgebrochen, indem mit einem neuartigen Messprinzip ein vibrationsunempfindliches AFM entwickelt werden soll. Zusammen mit der TU Ilmenau wird hier ein TAB-Projekt im Land Thüringen geschnürt. Statt einem AFM mit einer Messsonde, welches momentan weltweit ausnahmslos praktiziert wird, benutzt die Technologie von Parcan zwei Messsonden und filtert das Vibrationsrauschen effizient aus. Das zu entwickelnde AFM hat damit ein riesiges Marktpotential zum Ersatz bisheriger AFM und macht insbesondere die Erweiterung neuer industrieller Anwendungen möglich.